史诗级成果— 哈工大推出DPP-EUV光源

哈工大在国家急需时刻从不缺席，现在国家急需光刻机。哈工大推出的DPP-EUV光源，真是史诗级成果，这是哈工大在超精密加工，超精密测量领域几十年积累的结果！

EUV光刻的全称为极紫外光刻（Extreme Ultra-violet），其光源主要有2种：1、一种是DPP-EUV极紫外光源。放电激发等离子体EUV极紫外光源，荷兰ASML光刻机公司，哈工大研究的都是这一种。DPP EUV光源的优点是产生EUV的能量转换效率高，造价低；缺点是电极热负载高，产生碎片多，机制复杂，光学器件易于受损，光收集角小。2、激光等离子体光源(LPP)LPP EUV系统主要包括激光器、汇聚透镜、负载、光收集器、掩膜、投影光学系统和芯片。
  这2种光源哈工大气体可调谐激光技术国家级重点实验室在15年前就研究了。哈工大取的重大突破的是：放电激发等离子体EUV极紫外光源。与荷兰ASML光刻机公司的是同一种EUV极紫外光源。如果3-5纳米光刻机两年内国产，则华为有救！哈工大功劳举世无双！